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光学窗口片抛光时间过长会出现的现象
点击次数:44 发布时间:2019-12-16
   光学窗口片研磨抛光阶段的工艺流程为:粗磨(一致化)-精磨(平坦化)-抛光(镜面化)。其中,粗磨和精磨阶段都是采取磨料冲击破碎蓝宝石表面的方式进行,为纯物理作用,抛光一般采用碱性二氧化硅溶胶,一边对蓝宝石表面进行轻微腐蚀,一边通过抛光垫扫除的方式达到镜面效果,为CMP抛光,即化学物理抛光法。
  由以上流程可知,蓝宝石抛光是一个腐蚀—扫除的过程,其中,腐蚀的厚度仅仅达到埃米级。蓝宝石抛光完结应该是镜片的所有部分都达到镜面效果。
  在日常加工中,经常碰到光学窗口片抛光过长的现象,时间太长的会出现以下现象:
  1.长方形特别是长条形的四个角抛不透;
  2.表面有坑点;
  3.橘皮水纹等缺陷;
  4.表面发蒙,雾化。
  以上现象,除第三点外,基本都由研磨所产生。
  光学窗口片的抛光是逐渐腐蚀的过程,而腐蚀的深度非常细微,蓝宝石抛光时间长,无非就是腐蚀还没达致全局,要想达致全局,只能延长抛光时间。
  若光学窗口片表面出现坑点,该如何处理?
  表面坑点有两种基本现象,一是个别坑点且全盘几乎每片都有;二是单片上密布坑点。头一种现象产生的原因是研磨砂个别大颗粒挤压产生的坑点,采取的方式是卸压,即将上盘的压力降低,甚至可以利用反压,同时注意分析是否有碎屑、铁屑或其他大号砂通过环境传输混入,若有此现象,必须清洗机器并过滤砂液,一般来讲,混入少量的大颗粒研磨砂,通过研磨一定的时间后会消除。
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